适用范围 | 反应温度在1600℃左右的CVD实验,。 | 加工定制 | 是 |
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型号 | TN-D1700 |
广泛用于各种反应温度在1600℃左右的CVD实验,也可用于:真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。
TN-D1700型单温区三通道混气CVD系统
仪器采用双层亮体结构,并带有分冷,使得壳体表面的温度小于55℃。保温材料采用高纯氧化铝多晶纤维可以环保节能,减少热量的损失内炉膛表面涂有进口的高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率,同时也可以延长仪器的使用寿命。
技术参数;
1 | 产品名称 | 单温区三通道混气CVD系统 |
2 | 产品型号 | TN-D1700 |
3 | 加热元件 | 1800高纯度硅钼棒 |
4 | 最大升温速度 | 5℃/min |
5 | 最大降温速度 | 5℃/min |
6 | 加热区长 | 455mm |
7 | 恒温区长 | 150mm |
8 | 温控系统 | 一个精密温度控制器PID方式控制,通过可控硅 SCR可设置30段升降温程序 |
9 | 控温精度 | ±1℃ |
10 | 工作电源 | Ac220v 50Hz 单向 |
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